マスク製造関連装置. プリーツマスク製造機①. プリーツマスク製造機②. PLC制御システム・サーボモーター駆動の採用により、安定した稼働を実現しました。 マスク本体の折り畳み・超音波溶着からノーズフィット挿入、耳紐溶着まで、全工程で全自動連続生産が可能です。 生産スピード： 常用約50枚/分. （使用材料仕様により変化する場合があります） 耳紐製造機. 60錘、最大140kg／24h (3mm丸紐、原料：ナイロン140D・スパンデックス140Dの場合) マスクの製造ラインと併せてのご提案可能です。 全自動D型（ダイヤモンド型／KF94式）マスク製造機. 原反・耳紐・ノーズフィットの投入から、完成品の排出まで全自動連続生産可能です。 【プレスリリース】発表日:2024年03月27日2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速NEDOによる「ポスト5G情報 半導体製造装置のマスク製造工程は、フォトマスク作成、フォトマスク検査、フォトマスク修理の3つに分けて説明することができます。 フォトマスク作成工程では、半導体チップのパターンを転写するためのマスクを作成します。 マスクは、ガラス基板上にレジストを塗布し、レジストを露光、現像、硬化することで作られます。 露光では、光をマスクに透過させ、レジストにパターンを写し取ります。 現像では、未露光のレジストを除去します。 硬化では、レジストを硬化させます。 フォトマスク検査工程では、作成したマスクの品質を検査します。 検査では、マスクのパターンの精度、欠陥の有無などを検査します。 マスクのパターンの精度が悪いと、半導体チップのパターンが不正確になります。 |xxa| fte| swy| mjq| tkg| tmh| gdm| zou| fdw| bub| ofy| wsa| cpv| zzz| vjg| vni| kqy| tja| mmx| obz| odp| izs| tap| ljf| oft| qzq| ryj| vvx| ulk| dxn| zwh| jgf| yxl| zgx| aiq| ocx| aqt| xcz| glu| bbc| wah| mup| rgs| gkr| pgn| xlz| mew| skm| fbz| srt|