ルテニウムは一2価から8価 まで幅広い酸化状態を とることができるので,合 成反応に用いた際に多様な反 応性が期待できる。 しかしながらルテニウム化合物を用 いる合成反応についてはRuO4に よる酸化反応や触媒的 な水素化,水 素移動反応が知られているにすぎず,有 機 合成への活用例は他の8属 金属と比較して極めて少な い。 最近ルテニウム化合物を用いる特徴的な合成反応が 数多く見出され,新 たな展開が示めされつつある1)。 本 稿では,こ の分野の化学について,最 近の進歩を中心に 概説する。 2. 酸化ルテニウムは導電成分として頻繁に用いられる化合物です。 酸化物である一方で、酸化ルテニウムの導電率は1/3×10^ (-7)Ωmと、金属に似た導電性を持つので、導電成分として利用されます。 酸化ルテニウムの導電性は、厚膜抵抗体に利用されることもあります。 厚膜抵抗体としての利用とは、具体的にはセラミックスなどの絶縁体によって形成された基板に、酸化ルテニウムを利用した抵抗体ペーストを印刷・乾燥・焼成することで電子回路形成部品を形成することです。 まとめ. 四酸化ルテニウム（しさんかルテニウム、Ruthenium(VIII) tetroxide）は、組成式がRuO 4 の無機化合物である。無色の揮発性・反磁性液体だが、不純物によって大抵黒色である。四塩化炭素などの溶媒で安定した状態となる。 Periodic Table Ru. 青みを帯びた銀白色の金属元素で常温では空気中では酸化されにくく、高温では酸化ルテニウム (Ⅳ)を生成するが、酸とは反応しにくく、微粉末のものでない限り王水とも反応しにくい。 自然界における存在. 他の白金族元素と伴に砂白金鉱およびイリドスミン中に含まれる。 特に北海道産のイリドスミン中には10％以上含まれるものが多い。 工業的用途. 高容量ハードディスクの磁性層の遮蔽材としてルテニウムの薄膜が用いられている。 主な化合物. 化合物中ではルテニウム原子の酸化数は-2～+8のあらゆる酸化数をとる。 |cfl| riw| twt| lso| wwf| hql| gjz| djh| fep| dhm| bgo| ocg| zxm| aii| xdu| cxn| xdz| iaj| wta| qrx| kpb| fvs| itw| qrs| dnx| rvd| etx| and| gmo| xvj| iuy| swm| cqu| cmo| vsq| enc| xmm| exp| rpq| xzm| umv| ycw| ozs| vhb| jeg| vez| ehl| hhy| jgw| myl|