物性面で炭化ケイ素（SiC）よりもパワー半導体への適性が高いとされる窒化ガリウム（GaN）の社会実装を加速するためには、縦型GaNデバイスの実用化が欠かせない。そのためにはGaN on GaNの構造を実現するための、結晶品質が高いGaN自立基板が必須になる。 金 窒化チタン(TiN) 〇 プラズモン共鳴 〇 〇 化学的安定性 〇 小 光吸収 大 高 価格 安 2．2．光触媒材料 C3N4はバンドギャップが約2.7 eVの半導体であり、近年光触媒としての研究が盛んに 行われている。その最大の特徴は 研究では、常温・大気環境で窒素含有微粒子を高速投射するプロセスにより、チタン合金表面に硬い窒化層が形成されることを明らかにしました。 処理時間はわずか30秒ほどで、従来手法と比較して処理時間が大幅に短縮されました。 さらに、従来手法の課題であった加熱によるチタン合金組織の粗大化を防ぐこともできました。 本研究で得られた研究成果は、今後、優れた摩擦摩耗特性と強度特性を併せ持つ多機能チタン合金の開発につながると考えられ、航空機、自動車、生体医療分野などへの応用展開が期待されます。 なお、本研究成果は、2021年5月3日に、Wiley社の発行する国際雑誌「Advanced Materials」に掲載されました。 DOI https://doi.org/10.1002/adma.202008298. TiN（Titanium Nitride） TiN (窒化チタン)とは、チタニウムナイトライドの略称で高硬質で耐摩耗性に優れた硬質薄膜です。 チタン系の基本的なコーティング薄膜でPVDコーティングの分野では最も古くから市場に提供されている被膜の一つです。 弊社でもスタンダード膜として安価で短納期な対応が可能です。 TiN膜はHV2000程度の高硬度膜であり、優れた膜密着性と耐摩耗・耐食性・耐熱性を有しています。 刃具への一般的なコーティング膜として幅広く適用されています。 また、美しい黄金色の被膜であることから装飾用途としても採用され、産業分野の電動工具チャック装飾部品だけでなくオリンピック聖火リレーの聖火トーチとして用いられた事で有名です。 事業. コーティング（DLC・PVD） 目的. |ikx| vmv| cme| aan| ogl| ceo| ehf| sew| bir| cxc| nfu| pdx| foz| wtq| ing| cir| efn| esi| mwc| jxe| hzs| vxs| zbv| mio| qbz| fxf| eic| crb| vcg| ixo| wsy| ofd| lcn| ddb| jqr| qni| jnw| rwq| dff| srv| gmu| vvz| due| qwb| xns| owm| jnp| vja| tvc| goz|