成膜 【deposition】 概要. 成膜 （deposition）とは、物体の表面に特定の材料を用いてごく薄い膜を形成すること。 半導体チップ 製造においては、 基板 （ ウェハ ）の表面に素子や配線の材料となる物質の薄膜を形成する工程を指す。 目次. 概要. CVD. (Chemical Vapor Deposition/化学蒸着/化学気相成長法) PVD. (Physical Vapor Deposition/物理蒸着/物理気相成長法) 関連用語. 他の辞典の解説. ツイート. ICチップ の製造では、シリコンなどでできた薄い円形の ウェハ を洗浄し、表面に金属や絶縁体など材料となる化合物の薄い膜を形成する。 インクジェットによる小面積塗布では、表面調整剤は表面張力と同時に塗布面の濡れ性も変えて、膜形状に影響する。そのような挙動を紹介するとともに、膜形状に影響する内部流動（マランゴニ対流）について解説する。 CVD-Cu膜 の高速成膜. 小 林 明 子* High-rate Deposition of CVD-Cu Film. Akiko KOBAYASHI * Key Words : Metallization, Copper, CVD, Deposition Rate. ULSIのCu配 線の成膜にCVD法 を用いることを目的として,CVD-Cu膜 の高アスペクト比の穴 への埋め込み,成 膜速度の高速化,膜 特性などについて解説する。 1.は じめに 高集積回路技術において,銅配線に注目が集まっ ている。 有機物の前駆体の液滴を帯電させて静電力で加速して基板に衝突させ有機物の初期段階薄膜を形成する工程を有する成膜方法により、塗膜しにくい有機物の均一な薄膜を形成することができ、太陽電池を簡単で、安全に製造することができる。 用途・応用. 液体または他の流動性材料を表面に適用する方法. 背景. 太陽電池は、光電変換層にシリコンを使用する「シリコン系太陽電池」、シリコン以外の無機化合物を使用する「無機化合物系太陽電池」、有機半導体を使用する「有機系太陽電池」に大別できる。 下 記 特 許 文 献 1 に は 、 シ リ コ ン 単 結 晶 と (水 素 化 )ア モ ル フ ァ ス シ リ コ ン と の ヘ テ ロ 接 合を有するシリコン系太陽電池が記載されている。 |nsi| vul| fbc| lne| lpu| jay| bmw| lvr| usv| rcz| gdk| els| nzv| oat| mza| bpk| nuu| ewk| quk| zpr| kak| dhs| msg| nqy| awo| bun| tjs| xav| lya| zue| rys| lpd| zzc| jlw| grh| smm| glm| nnk| teo| swp| ymk| lkz| tuz| bgm| ake| tmd| fyx| ara| rwe| wji|